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黑磷挑战石墨烯

来源于 《财新周刊》 2016年第36期 出版日期 2016年09月12日
黑磷有望在取代硅的道路上超越石墨烯,成为半导体工业的核心材料
黑磷的出现,让人们看到不需要把目光局限在石墨烯上。作为一种天然的半导体,黑磷的带隙宽度可调、电学性能优越。在很多人眼中,黑磷完全有望在取代硅的道路上超越石墨烯,成为半导体工业的核心材料。
《财新周刊》 文 | 财新记者 于达维

  在新材料领域,近几年来科技新闻头条的宠儿无疑是石墨烯。石墨烯十几年前被发现,其研究者于2010年获得诺贝尔奖,作为人类探索二维材料世界的“先锋”,它已经在许多领域展现出巨大的应用前景。

  但是石墨烯也有难以克服的缺点,例如,石墨烯本身没有半导体材料所需要的“带隙”,限制了其在半导体工业和光学器件等领域的应用,让石墨烯在替代硅的道路上,充满艰辛。

  以石墨烯为代表,单层原子厚度为标志的二维晶体,打开了一扇探索二维材料世界的大门。人们看到更多的可能,开始寻找其他类型的二维材料,其中有一些材料甚至具备比石墨烯更加优异的特性。

  首先登场的,就是一个熟悉又生僻的名字,二维黑磷。之所以说这个名字对很多人很熟悉,是因为它在一个世纪之前就被发现了;之所以说它生僻,是因为直到在2014年被应用到半导体元件场效应管中,研究者们才发现这是一种超级材料,并引起了全世界的广泛关注。

  参考重要经济数据,推荐查阅财新数据通【CEIC库】

版面编辑:王丽琨
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